電鍍不良在不同性質(zhì)的產(chǎn)品中也有不同的影響，比如裝飾性外觀(guān)缺陷會(huì )導致產(chǎn)品不能像期望的那樣外觀(guān)完好，但它不會(huì )造成功能失效；而功能性表面缺陷是指產(chǎn)品構件的基材在產(chǎn)品使用過(guò)程中被腐蝕，這種缺陷是不允許在任何已經(jīng)表面處理完畢的零件存在的。真空鍍鈦技術(shù)能提高零件的抗磨耗性。下降外表磨擦系數，滑動(dòng)摩擦阻力更小。沒(méi)有對人體有害的元素和物質(zhì)。環(huán)保無(wú)污染?？稍?00℃以下的低溫涂層，保證零件不變形，硬度不下降等優(yōu)勢。

極限真空度：（單位：P：在規定條件工作，在不引入氣體正常工作的情況下，趨向平穩的低壓強。一：靶面金屬化合物的形成。由金屬靶面通過(guò)反應濺射工藝形成化合物的過(guò)程中，化合物是在哪里形成的呢？由于活性反應氣體粒子與靶面原子相碰撞產(chǎn)生化學(xué)反應生成化合物原子，通常是放熱反應，反應生成熱必須有傳導出去的途徑，否則，該化學(xué)反應無(wú)法繼續進(jìn)行。在真空條件下氣體之間不可能進(jìn)行熱傳導，所以，化學(xué)反應必須在一個(gè)固體表面進(jìn)行。反應濺射生成物在靶表面、基片表面、和其他結構表面進(jìn)行。

與之對應的化學(xué)氣相沉積(ChemicalVaporDepsition)簡(jiǎn)稱(chēng)為CVD技術(shù)。行業(yè)內通常所說(shuō)的“IP”(ionplatin離子鍍膜，是因為在PVD工藝技術(shù)中各種氣體離子和金屬離子參與成膜過(guò)程并起到重要作用，為了強調離子的作用，而統稱(chēng)為離子鍍膜。真空鍍膜是一種產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)。在真空室內材料的原子從加熱源離析出來(lái)打到被鍍物體的表面上。此項技術(shù)用于生產(chǎn)激光唱片(光盤(pán))上的鋁鍍膜和由掩膜在印刷電路板上鍍金屬膜。在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍.蒸發(fā)鍍膜通過(guò)加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱(chēng)為蒸發(fā)鍍膜。